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全合成线切割液成分分析配方还原

2018-10-21 编号:212017791
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  • 配方分析,成分分析,配方还原,技术研发
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产品名配方还原,技术研发,成分分析,配方分析
面向地区上海浦东

 全合成线切割液成分分析配方还原

 

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凯思普科技能够乐于解决:

1、需求全合成线切割液配方还原技术研发配方组分,购买又害怕用不了或者成本过高;

2、现有产品配方组分成本不低,同行成本相对低;

3、想知晓某些电子助剂中都拥有什么含量;

4、研发水平不充足,及研发进度慢;

 

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1、通过微观谱图对电子助剂及物质的含量深入深入,快速判断目的物质中的各个助剂组成成分是什么,帮您对全合成线切割液配方还原技术研发物质深入定性定量分析检测。

2、比较行业电子助剂,优化配方组分用料, 在性能稳定的前提下改善材料成分,节约支出。

3、帮客户改良现有产品配方组分, 加快电子助剂各个性能,降低化学助剂原料找到成本。

4、帮通过分析方面内先进的电子助剂,知晓竞品成分体系,为客户给研发思路。

5、分析电子助剂化学助剂原料的含量配方结构,开发替代品,基本材料成分不再受到上游厂商管控。

 

上海凯思普,承担为数不少政府外包分析测试职能, 为新材料行业给技术服务、信息咨询、知识产权、专业培训、技术研发创造与投资融资一直到信息咨询、项目落实研发的一整套化工技术服务,真正创建全新的新材料技术研发服务网络,在成分含量分析及配方组分分析还原上凯思普(CESP)给完整的一整套化工技术服务系统,在技术上采用齐全的先进新兴科技分析检测设备,全部结果给标准谱图数据,客户可以对谱图资源深入考证,确保每一份分析研制结果都达成令人心满意足,凯思普(CESP)专职团队是由多家科研院所的化学专业行业专家和博士生导师配方结构,合作试验场地:整合上海市交大、上海华理、上海市材料研究学院等高校实验室及科研院所的重点实验室和研发中心的资源,分享国内分析设备,结合资源,大幅降低厂家投入成本。

 

凯思普(CESP)数年来坚持以技术发展,技术创新为突破点,在电子助剂开发分析化工行业,全面加快电子助剂技术,生产工艺改良等。同时凯思普(CESP)的研发团队具备专业的技术未来和高度的责任感,能够有效的处理电子助剂的各科研项目,获得合作方的一致好评。

 


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